Simulation of radical reaction throughout plasma-chemical-vapor deposition process

name:Yoshiyuki Miyamoto
Affiliation: Graphene Division, Technology Research Association of Single-Wall Carbon Nanotubes (TASC)
目的:銅表面上のグラフェンプラズマ気相成長メカニズムを解明する。
内容:メタン分子より発生するラジカル分子を予想し、銅基板との相互作用をシミュレーョンで調べた
結果:シミュレーョンにて CH ラジカルを銅基板に運動エネルギー10eVで衝突させた。 C-H結合分解は容易に起きず、さらに複雑な過程の存在が示唆された。




Posted : March 29,2020