Affiliation：Department of Applied Chemistry, Faculty of Engineering, Osaka University

Abstract：炭素(sp3)－フッ素結合は非常に強固な化学結合の一つであり、その切断反応は困難な反応の一つとして知られている。当研究室では、電子豊富なニッケル錯体を用いることで、炭素(sp3)－フッ素結合切断が進行することを見出した。本研究では、このニッケル錯体による炭素(sp3)－フッ素結合切断過程を理論計算ソフトであるGaussian 09を使用した密度汎関数理論（DFT）計算によって解析した。その結果、ベンゼン環への電子供与を経由して炭素(sp3)－フッ素結合が切断されるといった、これまで提唱されたことのない反応機構によって本反応が進行していることが示唆された。

論文掲載,発表実績:
（国内研究会等発表論文）

• 赤塚 千春、井宮 弘人、岩本 紘明、生越 專介、第100回日本化学会春季年会、「Ni(0)/NHC錯体を用いたジフルオロメチルアレーンの炭素－フッ素結合切断反応」発表番号：3H2-38