Author：Naozumi Fujiwara
Affiliation：SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd.
Abstract：半導体の微細化進展に伴いスリット構造の幅が狭くなっており、ウェット洗浄においてはスリット内部の液体の蒸発様相を知ることが課題である。本研究ではナノスリット内部からのイソプロピルアルコール（IPA)分子の蒸発速度をMD計算により解析し、スリット幅が数nmまで微細化した際の蒸発に与える影響を評価した。結果としてIPA蒸発速度はスリット幅が10 nmより狭くなると低下していき、Kelvin方程式に従うことが明らかになった。