Affiliation：The University of Osaka

Abstract：各種超精密表面加工法の原子レベルでの原子除去反応プロセスを第一原理計算を模倣する機械学習ポテンシャルで解析する手法を確立する

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（Domestic conference/wokrshop）

• 稲垣耕司, "作機械学習ポテンシャルを用いたシミュレーションによるSi(100)2x1水素終端表面上の過剰吸着水素の拡散過程の解析", 2025年第72回応用物理学会春季学術講演会, 14p-K507-9, 2025/3