Atomistic level Analysis of Machine Learning Interatomic Potential of Machining Processes
Author:Kouji Inagaki
Affiliation:The University of Osaka
Abstract:Si/O/H系の界面構造をデータとした機械学習ポテンシャルの作成を試行した。元素数の増加により複雑性が増し、計算を破錠させないポテンシャルを生成するにはデータが不足しており、さらなるデータが要求されることが分かった。第一原理計算により歪Siの水によるエッチング過程を解析した。
Affiliation:The University of Osaka
Abstract:Si/O/H系の界面構造をデータとした機械学習ポテンシャルの作成を試行した。元素数の増加により複雑性が増し、計算を破錠させないポテンシャルを生成するにはデータが不足しており、さらなるデータが要求されることが分かった。第一原理計算により歪Siの水によるエッチング過程を解析した。
Publication related to this research
(Domestic conference/workshop)
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- 金堂真太郎、有馬健太、稲垣耕司, "第一原理計算によるSiO2 上 Si 薄膜エッチングにおける基板局所ひずみ依存性の解析", 2026年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集, G89, 2026年3月17日.
Posted : March 31,2026


